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    光刻膠又稱光致抗蝕劑，是由感光樹脂、增感劑和溶劑等組成的光敏感混合液體。

    它在集成電路、太陽能光伏、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。

    高均勻性的光刻膠薄膜多采用旋轉(zhuǎn)涂膠工藝。

    利用旋轉(zhuǎn)涂膠工藝所獲得的光刻膠薄膜終厚度是由光刻膠的粘度、表面張力和轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)角速度等因素決定；

    絕大多數(shù)的光刻膠因旋轉(zhuǎn)涂膠時(shí)的離心力被甩離晶圓表面，造成浪費(fèi)現(xiàn)象，故光刻膠利用率極低。

    針對光刻膠涂覆工藝(旋轉(zhuǎn)涂膠工藝)的浪費(fèi)和環(huán)境污染問題；

    超聲波在自行研發(fā)的120KHZ的超聲波霧化噴涂設(shè)備的基礎(chǔ)上，對光刻膠噴涂工藝進(jìn)行改進(jìn)。

    超聲波霧化噴涂設(shè)備電源功耗(10W)低，產(chǎn)生的霧化液滴平均粒徑小、均勻性好；

    液滴直接噴涂在晶圓表面上的光刻膠利用率高，因此它被認(rèn)為是一種綠色的光刻膠薄膜制備工藝。

    而普通超聲波霧化噴涂設(shè)備表面的霧化液滴初始速度小，易于受到周圍空氣的擾動(dòng)；

    不利于獲得高質(zhì)量的光刻膠薄膜，難以實(shí)現(xiàn)理想的噴涂效果。

    為此，超聲波在超聲波霧化噴涂設(shè)備中加入載氣模塊增加霧化液滴的動(dòng)力；

    控制霧化噴涂方向和范圍，實(shí)現(xiàn)光刻膠薄膜的定向噴涂于基底的晶圓表面。